Tekscend Photomask und IMS Nanofabrication stellen Europas ersten Multibeam-Maskenschreiber im AMTC Dresden vor
Eine neue Ära in der europäischen Halbleitertechnologie
Wir sind stolz bekannt zu geben, dass wir in enger Zusammenarbeit mit Tekscend Photomask (ehemals Toppan Photomask) den ersten Multibeam Mask Writer Europas, den revolutionären MBMW-100 Flex von IMS Nanofabrication in Betrieb genommen haben. Dieses hochmoderne Gerät ist darauf ausgelegt, die Anforderungen der fortschrittlichen Halbleiterfertigung zu erfüllen, von zukunftsweisenden optischen Anwendungen bis hin zur hochmodernen EUV-Lithografie.
Der MBMW-100 Flex, eine Weltneuheit, reduziert die Maskenschreibzeit für komplexe Halbleiterdesigns drastisch von mehreren Tagen auf nur 7 bis 12 Stunden.
Die Installation dieser bahnbrechenden Technologie ist auch ein entscheidender Schritt in Europas Streben nach einer leistungsfähigen Halbleiterindustrie. Die lokale Produktion von High-End-Fotomasken ist für eine robuste und innovative Produktionsinfrastruktur in Europa unerlässlich. Die Zusammenarbeit zwischen IMS Nanofabrication, Tekscend Photomask und AMTC – allesamt weltweit führend auf ihrem Gebiet – verdeutlicht die entscheidende Rolle, die die Fotomasken-Technologie im globalen Halbleiter-Ökosystem spielt.
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www.photomask.com